真空镀膜平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，高熵合金真空镀膜平台，以及行业应用技术开发。
真空镀膜设备在运行时，钼金属真空镀膜平台，是需要电源给其靶材和基材供电的，天河真空镀膜平台，比如用在磁控溅射真空镀膜设备里面的磁控靶材，就需要配置磁控电源，磁控电源有进口和国产的。用在多弧离子真空镀膜设备上的电源，成为电弧电源，同时也有人称之为阴极电源和偏压电源。
电弧电源是电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量，在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，---镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台，多则十几台，甚至几十台。的工作对整台设备的性能---。电弧电源从传统电源式，经过采用可控硅技术，发展到现在的高频逆变式。
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近年来在---得到了迅速的发展。离子镀的基本原理是借助一种惰性气体的辉光或弧光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料（如tin、tic）的受热、蒸发、沉积过程。蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时，氧化锌真空镀膜平台，一小部分发生电离，并在电场的作用下飞向工件，以几千电子伏的能量射到工件表面上，可以打入基体约几纳米的---，从而---提高了涂层的结合力，而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射，还可以清除工件表面的污染物，从而---结合力。
离子真空镀膜机和蒸发镀膜机和磁控溅射镀膜机采用的技术是各不相同的，这几种镀膜技术原理也各具优势，可根据其镀膜工件和膜层选择不同的镀膜方式，从而达到市场需求。
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在重新开真空镀膜机前，要注意检漏。
扩散泵连续使用6个月以上，抽速明显变慢，或操作失当，充入---，拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。
方法：启动维持泵，关好大门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到6x10帕，否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈，或压坏密封圈。排除漏气---后方可加热，否则扩散泵油会烧环，真空镀膜设备无法进入工作状态。
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