氧化镍真空镀膜厂家-半导体研究所-广州真空镀膜厂家

真空镀膜厂家——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

较高的真空度可以---汽化分子的平均自由程大于蒸发源到基底的距离。由于气体分子的热运动，分子之间的碰撞也是极其频繁的，所以尽管气体分子运动的速度相当的高 ( 可达每秒几百米 ) ，但是由于它在前进的过程中要与其它分子多次碰撞， 一个分子在两次连续碰撞之间所走的距离被称为它的自由程， 而大量分子自由程的统计平均值就被称为分子的平均自由程。

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自1963年在一次偶然的机会出现了不寻常的硬度和化学性能好的化学汽相沉积（cvd）碳形式的薄膜后，国外有不少研究单位开始研究金刚石薄膜的沉积工艺.1971年，艾森伯格（aisenberg）和沙博（chabot）等人，利用离子束蒸镀法，以石墨作薄膜材料，通过气弧光放电使石墨分解电离产生碳离子。碳离子经磁场---成束，在比较高的真空条件下，在低压沉积室内的室温下的基片上沉积出了硬碳膜。这种硬碳膜具有近似于金刚石的一些特性－如透明度高、电阻抗大、硬度---。当时，这种膜被人们称作i形碳。直到1976年，斯潘塞（spencer）等人对这种应碳膜的结构进行了探讨，结果确认膜中有金刚石等数种碳系结晶，后才被人们称之为类金刚石膜。就在这一年，德贾吉恩（derjaguin）等人利用化学转变法合成出了金刚石薄膜。

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