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磁控溅射真空镀膜机镀制薄膜,均匀性是一项重要指标,氮化硅真空镀膜价钱,因此研究影响磁控溅射均匀性的影响因素,能---的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中,闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺旋运动,在运动过程中不断撞击工作气体气电离出大量的离子,离子在电场作用下加速轰击靶材,溅射出靶原子离子(或分子)沉积在基片上形成薄膜。所以要实现均匀的镀膜,就需要均匀的溅射出靶原子离子(或分子),这就要求轰击靶材的离子是均匀轰击的。由于离子是在电场作用下加速轰击靶材,所以要求电场均匀。而离子来源于闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击形成,这就要求磁场均匀和气分布均匀。但是实际的磁控溅射装置中,这些因素都是很难完全的均匀,这就有---研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。实际上磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。磁场大的位置膜厚,反之膜薄,磁场方向也是影响均匀性的重要因素。气压方面,在一定气压条件下,气压大的位置膜厚,反之膜薄。
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金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损大,反射率不可能---。为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜。需要---的是,金属电介质射膜增加了某---长(或者某---区)的反射率,却破坏了金属膜中性反射的特点。
全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反,在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的薄膜,就可以增加光学表面的反射率。简单的多层反射是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某---长的四分一。在这种条件下,参加叠加的各界面上的反射光矢量,振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。
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市面上别人称呼的类金刚石薄膜,通常指的就是dlc薄膜,是英文词汇diamond like carbon的简称,它是一类性质近似于金刚石,具有高硬度,高电阻率的薄膜。镀制dlc薄膜,通常采用dlc薄膜真空镀膜设备镀制,沉积速率快。
dlc薄膜具有---光学性能等,同时又具有自身摩擦学特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之间的不同结合方式,从而使其终产生不同的物质:金刚石(diamond)—碳碳以 sp3键的形式结合;石墨(graphite)—碳碳以sp2键的形式结合;而这里所述类金刚石(dlc)—碳碳则是以sp3和 sp2键的形式结合,生成的无定形碳的一种亚稳定形态,它没有严格的定义,海南真空镀膜价钱,可以包括很宽性质范围的非晶碳,因此---了金刚石和石墨的优良特性;所以由类金刚石而来的dlc膜同样是一种亚稳态长程无序的非晶材料,碳原子间的键合方式是共价键,主要包含sp2和sp3两种杂化键,而在含氢的dlc膜中还存在一定数量的c-h键。
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