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lpcvd真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，lpcvd真空镀膜厂商，以及行业应用技术开发。

在较高的真空度下可以减少残余气体的污染在真空度不太高的情况下， 真空室内含有众多的残余气体分子( 氧、氮、水及碳氢化合物等 ) ，它们能给薄膜的镀制带来---的危害。它们与汽化的膜料分子碰撞使平均自由程变短；它们与正在成膜的表面碰撞并与之反应； 它们隐藏在已形成的薄膜中逐渐侵蚀薄膜；它们与蒸发源高温化合减少其使用寿命；它们在已蒸发的膜料表面上形成氧化层使蒸镀过程不能顺利进行。

      因此，蒸发真空镀膜机要镀制膜层，必须要真空状态下才能进行镀膜，膜层才会牢固，才不会有污染物等。

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那么磁控溅射真空镀膜机怎样解决不均匀性的问题呢？

首先，要尽量---磁场的均匀性和方向一致性，形成一个相对均匀的空间磁场。

其次，要尽量---气压上下的均匀性，真空腔体设计时，要考虑真空泵的安装位置，海南lpcvd真空镀膜，和工艺气体进气方式以及腔体内工艺气管的布局。

第三，由于磁场和气压都不可能理想，那么就可以通过气压的不均匀来补偿磁场不均匀，让终薄膜均匀一致。

第四，靶基距也是影响均匀性的重要因素。

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