半导体光刻工艺实验室-重庆半导体光刻工艺-半导体材料

半导体光刻工艺——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻板图案并不是设计图纸的简单再现，而是要根据实际工作经验对图案进行合理修饰才行。不做修饰的光刻板经过光刻机的显影以后，得到的芯片图案会失真非常---。

打个简单的比方，要想打印一个老虎的图案，必须得用猫的相片作为参照，如果用老虎自己的相片做参照，打印出来的可能就是怪兽了。所以，制作光刻板，不能跟图纸设计的图案完全一样。

必须根据光学衍射的理论，和光刻机实际失真程度的经验进行反向设计，把光刻板图案做一定的修饰，以便终光刻出来的图案足够接近理想效果。这个环节对设计经验的要求非常高，得反复试验才能达到的效果。

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mems光刻工艺外协——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

在半导体电路中，除了用于可控导电的各种二极管、三极管外，还必须要用绝缘物质将不同的电路隔离开来。对于硅基元素来说，形成这种绝缘物质的方法就是将硅进行氧化，形成二氧化硅（sio2）了。

sio2是自然界中常见的一种材料，也是玻璃的主要元素。sio2材料的主要特点有：具有高熔点和高沸点（分别为1713 o c和2950o c）不溶于水和部分酸，溶于具有---的绝缘性、保护性和化学稳定性

由于以上特性，sio2在芯片制备的多个步骤工艺中被反复使用。芯片工艺中的氧化工艺是在半导体制造过程中，半导体光刻工艺外协，在硅晶圆表面形成一层薄薄的sio2层的过程。这层氧化层有以下作用：作为绝缘层，阻止电路之间的漏电

作为保护层，防止后续的离子注入和刻蚀过程中对硅晶圆造成损伤

作为掩膜层，定义电路图案