山西真空镀膜技术-半导体研究所-压点材料真空镀膜技术

真空镀膜技术mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

随着人们生活水平的提高，对物品表面的美观性提出的要求逐渐走高。因此，氧化钛真空镀膜技术，磁控溅射真空镀膜已经被广泛的应用于各种塑料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化的生产过程中。可以想见，磁控溅射真空镀膜技术在未来对于以为主的工艺生产会有广阔的发展前景，开拓出广阔的市场。

磁控溅射真空镀膜工艺具备它自身---的一些特点：可以多层镀膜，例如二层膜，铁金属真空镀膜技术，三层膜等，更换金属靶材就可以获得不同品种的产品，如热反射玻璃、低辐射玻璃等。采用磁控溅射真空镀膜这种方法生产的产品镀膜膜层均因牢固、色泽美观且品种繁多，产品范围十分的广泛。产量也可大可小，可以按照客户加工所需的和数量进行灵活调整，压点材料真空镀膜技术，同时---和数量，生命力强，是其他方法暂时无法达到的一个工艺方法。

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真空镀膜技术mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

3试验

3.1试验目的

熟悉真空镀膜的操作过程和方法。

了解磁控溅射镀膜的原理及方法。

学会使用磁控溅射镀膜技术。

研究不同工作气压对镀膜影响。

3.2试验设备

saj-500真空磁控溅射镀膜机(配有纯铜靶材) ;气瓶;陶瓷基片;擦镜纸。

3.3试验原理

3.3. 1磁控溅射沉积镀膜机理

磁控溅射系统是在基本的二极溅射系统发展而来，山西真空镀膜技术，解决二极溅射镀膜速度比蒸镀慢很多、等离子体的离化率低和基片的热效应明显的问题。磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置强力磁铁，真空室充入0.1~ 10pa压力的惰性气体(ar)，作为气体放电的载体。

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