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真空镀膜服务mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，pecvd真空镀膜服务，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，安徽真空镀膜服务，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

靶材的形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和---地影响膜层和溅射速率。的靶材可以------的薄膜，延长low-e产品的生命周期。更重要的是，它可以降低生产成本，提高生产效率。今天，我们分享靶材纯度和材料均匀性对大面积镀膜的影响。

溅射靶材纯度对大面积镀膜的影响

溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的表面玻璃进入高真空镀膜室时。如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话，靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面，功率器件真空镀膜服务，导致某些位置的膜层不牢固，出现剥离现象。因此，靶材的纯度越高，薄膜的性能就越好。

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传动速度

玻璃基片在阴极下的移动是通过传动来进行的。低传动速度使玻璃在阴极范围内经过的时间更长，这样就可以沉积出更厚的膜层。不过，为了---膜层的均匀性，传动速度必须保持恒定。

镀膜区内一般的传动速度 范围为每分钟0 ~600英寸(大约为0~15.24米)之间。根据镀膜材料、功率、阴极的数量以及膜层的种类的不同，通常的运行范围是每分钟90 ~ 400 (大约为2.286~ 10.16米)英寸之间。

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