微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要---半导体产业发展的应用技术研究,---重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
光刻技术是集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法。
光刻涂底方法:气相成底膜的热板涂底。hmds蒸气淀积,200~250c,30秒钟;优点:涂底均匀、避免颗粒污染;旋转涂底。缺点:颗粒污染、涂底不均匀、hmds用量大。目的:使表---有疏水性,增强基底表面与光刻胶的黏附性旋转涂胶方法:
a、静态涂胶(static)。硅片静止时,滴胶、加速旋转、甩胶、挥发溶剂(原光刻胶的溶剂约占65~85%,旋涂后约占10~20%);
b、动态(dynamic)。低速旋转(500rpm_rotationperminute)、滴胶、加速旋转(3000rpm)、甩胶、挥发溶剂。决定光刻胶涂胶厚度的关键参数:光刻胶的黏度(viscosity),黏度越低,微流控光刻定制价钱,光刻胶的厚度越薄;
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光刻胶涂覆后,在硅片边缘的正反两面都会有光刻胶的堆积。
光刻(photolithography)是一种图形转移的方法,在微纳加工当中不可或缺的技术。光刻是一个比较大的概念,其实它是有多步工序所组成的。
1.清洗:清洗衬底表面的有机物。
2.旋涂:将光刻胶旋涂在衬底表面。
3.---。将光刻版与衬底对准,在紫外光下---一定的时间。
4.显影:将---后的衬底在显影液下显影一定的时间,受过紫外线---的地方会溶解在显影液当中。
5.后烘。将显---的衬底放置热板上后烘,以增强光刻胶与衬底之前的粘附力。
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光刻胶的国产化---正在各方面展开,在面板屏显光刻胶领域,已经出现了一批有竞争力的本土企业。
光刻胶按应用领域分类,可分为pcb光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。全i球市场上不同种类光刻胶的市场结构较为均衡。智研咨询的数据还显示,受益于半导体、显示面板、pcb产业东移的趋势,自2011年至今,光刻胶本土供应规模年华增长率达到11%,高于全i球平均5%的增速。2019年光刻胶市场本土企业销售规模约70亿元,全i球占比约10%,发展空间---。目前,本土光刻胶以pcb用光刻胶为主,平板显示、半导体用光刻胶供应量占比极低。
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