广州真空镀膜实验室-氧化镍真空镀膜实验室-半导体研究所

真空镀膜实验室——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，广州真空镀膜实验室，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

一般精密一些的真空镀膜设备里面都配有poldcold，在高真空系统中抽吸水汽，缩减抽空时间多达75%，提高您现有真空系统生产能力的20%到100%，氧化镍真空镀膜实验室，---镀膜的，提高薄膜的附着力和多层镀膜能力。

      应用：光学镀膜，卷绕镀膜等各种功能镀膜或装饰镀膜系统。可以在真空室内抽吸水汽，也可以用于冷阱等冷却装置防止扩散泵返油。

使用过程：

在高真空状态下，真空室内残余气体分子的65%到95%以上都是水分子以及水分子与其它气体分子的结合物，这些水汽分子是典型的具副作用性的污染气体。以往常用的方法是，离子清洗和高温烘烤，而用昂贵的低温泵系统也仅仅吸附和掩埋掉真空室的一部分水蒸气分子，高温烘烤也只是把水分子从基片表面迁移，使基片减少对水蒸气的吸附，而polycold深冷泵是将90%以上的水分子吸附在低温盘管（cry coil）的表面，并能吸附掉真空室内一部分油分子，如果在真空系统水冷阱，不仅能吸抽水汽，而且可以防止扩散泵返油。

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真空镀膜实验室——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。  

 pvd（physical vapor deition）即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的---的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基底上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，---具有膜层附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等特点。

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