mems真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
真空镀膜机设计应该注意什么，能减少捡漏工作
结构设计时，在容器或系统上要留有---的检漏仪器备用接口，以便在设备组装、调试过程中检漏使用。尤其是大型、复杂的管路系统，通常需要采用分段检漏方法，因此在管路上要设置分段隔离的阀门，并在每一隔离段上预留检漏仪器接口。
零件结构设计时，尽量避免采用可能干扰检漏工作的设计方案。例如在真空室內螺钉孔不能采用盲孔形式，mems真空镀膜工艺，因为安装螺钉后螺孔内部剩余空间的气体只能通过螺纹间隙逸出，形成虚漏。从而延长系统抽气时间，干扰检漏正常进行。如图真空检漏中不应出现的结构。
与此类似，结构设计中不允许存在连续双面焊缝和多层密封圈结构，因为这会在中间形成“寄生积”内的气体会形成虚漏；而当内、外双侧焊缝或密封圈同时泄漏时，“寄生容积”使示漏气体穿越双层焊缝的响应时间过长，无---常检漏。
焊接结构设计时，尽量减少总装后无法检漏的焊缝。
真空镀膜机捡漏工作，是需要在设计、制造、调试、使用各个有关环节中随时进行，但是为了减少后期捡漏工作加重，必须要在设计环节，就应该重视捡漏工作，---真空镀膜机后期环节捡漏环节的减少。
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真空镀膜机设计应该注意什么，能减少捡漏工作
为了---真空镀膜机具有---的密封性能，必须要在切断可能存在漏孔的原因，因此仅仅在设备安装完毕后去寻求漏孔的位置，堵塞漏孔的通道是远远不够的。必须要在设置真空镀膜机设计就要进行真空检漏工作。下面真空小编为大家在设计环节就开始需要进行捡漏的一些真空镀膜注意事项：
1、根据设备的工艺要求，确定真空镀膜机的总的允许漏率，并依据这一总漏率确定各组成部件的允许漏率。
2、根据设备的允许漏率等指标，在设计阶段就初步确定将要采用的检漏方法，并将其作为指导调试 验收的基本原则之一。
3、根据设备或部件的允许漏率指标，决定设备的密封、连接方式和总体加工精度，以及何种动密封形式能够满足要求。如，mems真空镀膜厂商，法兰采用金属密封或橡胶密封。
4、容器结构强度设计时，考虑如果采用加压法检漏被检件所应具有的耐压能力和结构强度。
5、选择零部件结构材料时，考虑是否使用了可能被工作介质和示漏气体腐蚀而导致损坏的材料。
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(7)流量计i置于阀控档(看是否有读数，一般为30。否则查明原因)，调节控制电离真空计示数约1pa，调节直流或射频电源到所需功率，重庆mems真空镀膜，开始镀膜。
(8)镀膜过程中注意设备工作状态，若工艺参数有异常变化应及时纠正或停止镀膜，问题解决后方可重新镀膜。
(9)镀膜完毕后，关闭直流或射频电源，关闭气阀门。将挡板逆时针旋至通路。当气罐流量变为零后，关闭流量计i，继续抽半个小时到两个小时。
(10)关闭流量显示仪和电离真空计，停止分子泵，频率降至100hz后关闭机械泵，5分钟后关闭分子泵，关闭总电源。
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