天河mems真空镀膜-半导体-mems真空镀膜实验室

mems真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，mems真空镀膜平台，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，mems真空镀膜实验室，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

2.3.2速度

另一个变量是速度。对于单端镀膜机，天河mems真空镀膜，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~600英寸大约为0 ~ 15.24米)之间选择。对于双端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~ 200英寸(大约为0~ 5.08米)之间选择。在给定的溅射速率下，传动速度越低则表示沉积的膜层越厚。

2.3.3气体

后一个变量是气体。可以在三种气体中选择两种作为主气体和辅气体来进行使用。它们之间，任何两种的比率也可以进行调节。气体压强可以在1 ~ 5x 10-3torr之间进行控制。

2.3.4阴极/基片之间的关系

在曲面玻璃镀膜机中，还有一个可以调节的参数就是阴极与基片之间的距离。平板玻璃镀膜机中没有可以调节的阴极。

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mems真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

真空系统的部分，可能出现的故障有：

（1）阀门问题，各种阀门打不开：出现各种阀门打不开的情况时，首先检查阀门各属器室的阀门有无关---、气压是不是正常，如果上述的条件都正常但是仍旧不能工作的情况下，则应对照系统电气原理图检查各执行器件供电回路是否正常，逐一进行排除。

工件烘烤系统：

（1）温度失控，恒温不稳定：可能原因有，温控仪工作失常、调功器输出不能调节、热电偶位置欠妥。这种情况下我们可以检修更换温控仪、检查调功器工作情况、调整热电偶位置。

（2）跳闸：可能原因有，自身短路、绝缘降低、电阻太小。这种情况下我们可以检修加热器件重新调整到正常工作、清洗蒸发物质检查绝缘物质是否破损提高真空度、选择较低的输出电压待温度升高再提高电压。