四川光刻制作工厂-ebl光刻制作工厂-半导体研究所

光刻制作工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

什么是光刻板

光刻板是一种由石英为材料制成的，可以用在半导体---制程上的母版。 而这种从光刻板母版的图形转换到晶圆上的过程，就像机工作一样。我们可以把光刻机---成机，把母版的图形印到纸张上的过程，就像光刻机把芯片图形印到晶圆上一样，都需要有母版，这个母版在半导体制造上就是光刻板。 为了制造一款芯片需要几百道工序，光刻板也是不只一张的，在14nm工艺制程上，大约需要60张光刻板，7nm可能需要80张光刻板甚至更多。当然光刻板的品质要求是不同的，对于某些对精度要求---的工序，相对应的光刻板对精度的要求时高的，比如晶体管相关的光刻板， 而对精度要求不那么高的工艺，比如pad（打线孔）等要求就低一些，光刻板价格也便宜一些。 ---制程对光刻板精度的要求越来越高，同时不能有缺陷，所以光刻板制造后的检查（inspection）也很重要。

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光刻之所以得名，就是因为它通过利用光线，把带有图案的掩模板上的图形转移到晶圆片上。由于半导体技术的主要目标是尽可能的缩小电路尺寸，所以对光刻的精度要求也越来越高。---的光刻机是光刻步骤的基础，这就是为什么“光刻”成为---的工艺步骤。

为了支持更---的光刻，也有---的光刻机被制造出来。目前---的光刻机技术是极紫外光刻技术（euv，extreme ultra-violet），它使用波长为13.5纳米的极紫外线作为光源进行电路光刻，四川光刻制作工厂，可以制造出7纳米及以下工艺节点的芯片。asml是euv光刻机的---厂商，其新型号的光刻机号称可实现0.3纳米的精度。

光刻技术是半导体芯片工艺中昂贵的工艺，在---工艺中，光刻步骤的成本可以占整个芯片加工成本的三分之一甚至更多。