半导体光刻芯片委托加工-山西半导体光刻芯片-半导体光刻

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。

光刻涂胶四周呈现放i射性条纹，主要可能的原因是光刻胶有颗粒、衬底未清洗干净，表面有颗粒、滴胶后精致时间过长，部分光刻胶固话，解决的方法主要有更换光刻胶，使用新的光刻胶涂胶来测试一下、将衬底再清洗一次再涂胶、滴胶后马上旋涂，以免光刻胶有所固化

欢迎来电咨询半导体研究所哟~

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，半导体光刻芯片委托加工，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻掩膜版清洗方法

掩膜版因为称光罩，是光刻过程中的一个工具，关于掩膜版的清洗方法多样，掩膜版厂家所提供的的清洗方法是用饱和的naoh溶液浸泡5min， 用去离子水冲洗，半导体光刻芯片价格，然后用50%泡5min，半导体光刻芯片服务，用去离子水冲洗，氮气吹干。

当然也有专门的设备，一般先使用掩膜版清洗液，将掩膜版放入掩膜板清洗机边冲洗边旋转，将污染颗粒冲洗干净。之后高速旋转甩干。掩膜板清洗机可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。

1.掩膜版rca清洗方法