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mems材料刻蚀加工——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

芯片加工工艺

芯片制造分为前道工艺设备（晶圆制造）、后道工艺设备（封装与检测）等，前道的晶圆加工工艺包括氧化、扩散、退火、离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀、化学机械平坦化（cmp）等。

氧化、退火工艺的主要作用是使材料的特定部分具备所需的稳定性质;

扩散、离子注入工艺的主要作用是使材料的特定区域拥有半导体特性或其他需求的物理化学性质;薄膜沉积工艺(包括ald、cvd、pcd等)的主要作用是在现有材料的表明制作新的一层材料，用以后续加工;

光刻的作用是通过光照在材料表面以光刻胶留存的形式标记出设计版图(掩膜版)的形态，为刻蚀做准备;

刻蚀的作用是将光刻标记出来应去除的区域通过物理或化学的方法去除，以完成功能外形的制造;

cmp工艺的作用是对材料进行表面加工，通常在沉积和刻蚀等步骤之后;

清洗的作用是清除上一工艺---的杂质或缺陷，为下一工艺创造条件;

量测的作用主要是晶圆制造过程中的把控。