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先来介绍一下，什么是磁控溅射镀膜机？百度百科上，关于磁控溅射镀膜机是这样解释的：磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，是一种普适镀膜机，目前主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

这还要从这种机器的系统组成说起，磁控溅射镀膜机内部系统主要是由：真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。

除此之外，标准的磁控溅射镀膜机，它的技术指标也是有一个固定值的，就像是磁控溅射镀膜机的真空部分，包括真空室系统溅射室、真空抽气及测量系统，对于这两部分来说，它们的---真空度应该为：6.7×10-5pa，系统漏率：1×10-7pal/s。恢复真空的时间应该在：40分钟可达6.6×10 pa（短时间暴露---并充干燥氮气后开始抽气）。

不仅如此，除了技术指标之外，这些设备的尺寸指标也是有合格标准的。真空室的标准大小应该处于：圆形真空室，尺寸550× 450mm。样品台的标准尺寸应该是：尺寸为直径350mmx280mm，滚筒结构。包括磁控靶：有效溅射区为3英寸×3英寸，数量：4支，标准型永磁靶，lpcvd真空镀膜价格，1支，标准型强磁靶，钎焊间接水冷结构；靶直径φ60㎜，靶内水冷。靶基距为50～90mm连续可调（手动），并有调位距离指示。