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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一

接触式---和非接触式---的区别，在于---时掩模与晶片间相对关系是贴紧还是分开。

正胶---前，半导体光刻技术工厂，光刻胶不溶于显影液，---后，---区溶于显影液，贵州光刻技术工厂，图形与掩膜版图形相同；而负性光刻胶，---前光刻胶可溶于显影液，微流控光刻技术工厂，---后，被---区不溶于显影液，图形与掩膜版图形相同。

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微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

光刻胶若性能不达标会对芯片成品率造成重大影响。

光刻胶若性能不达标会对芯片成品率造成重大影响。目前光刻胶国产化水平---不足，重点技术差距在半导体光刻胶领域，有2-3代差距，随着下游半导体行业、led及平板显示行业的快速发展，未来国内光刻胶产品国产化替代空间---。同时，国内光刻胶企业积极抓住晶圆制造扩产的百年机遇，发展光刻胶业务，力争早日追上国i际---水平，打进国内新建晶圆厂的供应链。光刻胶的国产化---正在各方面展开，在面板屏显光刻胶领域，已经出现了一批有竞争力的本土企业。在半导体和面板光刻胶领域，尽管国产光刻胶距离国i际---水平仍然有差距，但是在政策的支持和自身的不懈努力之下，已经有一批光刻胶企业陆续实现了技术突破。

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